仪器型号：IM4000plus

生产厂商：日本日立

仪器说明：

1、主要功能及应用范围：

适用于断面及平面的离子研磨：(1)适用于制备金属以及复合材料、高分子材料等各种样品的断面，及多种硬度和研磨速度不同的成分所构成的复合材料。可以分析结晶状态的断面及开裂和空洞等缺陷的断面。(2)平面研磨运用广泛，可去除机械研磨中难以消除的细小划痕和形变，去除样品的表层，消除FIB加工的损伤，使样品最表面加工更加平滑，少落差，可作为观察结晶对比度或EBSD前处理。

2、主要规格及技术指标：

（1）加速电压：0-6 kV;

（2）加工速度：截面加工500 μm / h（6kV 的条件下，Si片）；

（3）截面样品最大尺寸：20(W) x 12(D) x 7(H) mm；移动范围：X：± 7 mm，Y：0~ 3 mm；样品摆动角度：±15°，±30°，±40°，

（4）平面样品最大尺寸：50 Φ x 25(H) mm；样品摆动角度：±60°，±90°。

3、联系方式：

设备保管人：高伟建、冯善娥、陈木子、刘朋

电话/Email: 0512-65880389/sem@suda.edu.cn

地点：独墅湖校区704幢1楼电镜中心