仪器名称 | 磁控溅射镀膜机 |
型号 | PVD75 |
厂家 | 科特莱思科(上海)商贸有限公司 |
主要规格及技术指标 | 1.配装3支Ф2英寸的磁控溅射靶,其中一支可镀铁磁材料。 2.磁控溅射靶射频(RF)、直流(DC)兼容。 3.每只磁控溅射靶均配备挡板,基片配挡板。 4.极限真空:5*10-5 Pa;工作背景真空:7*10-4 Pa. 5.基片尺寸≤Ф4英寸。 6.基片可加热至500 ℃. 7.控制系统:PC+PLC全自动控制。 |
主要功能及应用范围 | 磁溅射镀膜机是一种普适镀膜机,用于各种单层膜、多层膜和掺杂膜系。可镀各种硬质膜、金属膜、合金、化合物、半导体、陶瓷膜、介质复合膜和其他化学反应膜,亦可镀铁磁材料。主要用于实验室制备有机光电器件的金属电极及介电层,以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。 |
主要附件 | 机械泵 |
联系人 | 朱文昌 |
联系电话 | 15301453461 |
责任编辑:朱文昌