仪器名称 | 等离子体系统 |
型号 | IoN 40 |
厂家 | 德国普发拓普公司 |
主要规格及技术指标 | 1.反应腔室:腔体材料铝;尺寸229 mm*330 mm*483 mm; 2.供气系统:两路气;质量流量计(MFC)控制 3.真空系统:预真空50 mTorr;工艺压力120-2000 mTorr 4.射频源:射频频率13.56 MHz;功率0-300 W连续可调 5.控制系统:清洗流程自动控制; |
主要功能及应用范围 | 等离子体去胶机是光刻工艺所必需的辅助设备,在半导体工艺和生物技术方面都有广泛应用。具体应用可归纳为以下几个方面: 等离子体表面改性;有机物表面等离子体清洗;绑定强度增强;等离子体刻蚀应用;等离子体灰化应用;增强或减弱浸润性。 |
主要附件 | 干泵 |
联系人 | 朱文昌 |
联系电话 | 15301453461 |
责任编辑:朱文昌 |