系统组成 | 扫描电镜和电子束曝光图形发生器 |
扫描电镜厂家 | 美国FEI |
扫描电镜型号 | Quanta 200FEG |
扫描电镜主要规格及技术指标 | 1. 分辨率:二次电子成像 高真空模式:2.0 nm(30 KV),3.5 nm(3 KV) 2. 加速电压范围:200 V~30 KV |
电子束曝光图形发生器厂家 | 德国 Raith |
电子束曝光图形发生器型号 | ELPHY Quantum |
电子束曝光图形发生器主要规格及技术指标 | 1. 扫描频率 6MHz 2. 最小停留时间 167 ns 3. 写场修正:硬件修正 |
扫描电镜电子束曝光系统主要功能及应用范围 | 1、固体物质的形貌分析。 2、采用电子束直接曝光的方法,用于制做微纳图形结构。无需掩模版,可用于制作:微纳电子器件,光电子器件,低维材料的纳米电极等。 |
联系人 | 韩玉洁 |
联系电话 | 65880320 |
E-Mail: | yjhan@suda.edu.cn |
责任编辑:朱文昌